提起
真空等離子清洗機，它不分處理對象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。那么，關于它的清洗過程是怎樣的呢？今天小編就來說說吧
真空等離子清洗機整個清洗過程大致如下：
1、被清洗的工件送入真空式并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。
2、向真空室內引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內壓強穩定。根據清洗材質的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體，讓在真空室產生的等離子體*籠罩住被處理工件，開始清洗作業，一般清洗處理持續幾十秒到幾十分鐘不等。
4、清洗完畢后切斷電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
上述就是小編對于真空等離子清洗機的清洗過程的介紹！相信大家應該已經有所了解了，今天小編就給大家介紹這么多，如果大家還有什么不明白，小編會隨時為您解答！
