在等離子體清洗工藝當(dāng)中，影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個(gè)方面：

　　（1）放電氣壓（真空度）：對于低壓等離子體，放電氣壓增加，等離子體密度越高，電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個(gè)方面，如密度越高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此，放電氣壓的選擇對低壓等離子體清洗工藝至關(guān)重要。

　　（2）氣體種類：待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性，而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對性地選擇等離子體的工作氣體，如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢，選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層

　　（3）放電功率：放電功率增大，可以增加等離子體密度和活性粒子能量，因而提高清洗效果。例如，氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。

　　（4）暴露時(shí)間：待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時(shí)間越長清洗效果相對越好，但工作效率降低。并且，過長時(shí)間的清洗可能會(huì)對材料表面產(chǎn)生損傷。

　　（5）其他：等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)

　　在實(shí)際的工作中，選擇合適的工藝參數(shù)至關(guān)重要，需要將各種影響因素綜合考量和運(yùn)用。不能簡單的將參數(shù)獨(dú)立使用。